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光刻涂胶显影设备填补国内空白 芯源微网上路演引关注
作者:万博  来源:万博manbetx官网  时间:2020-01-11 09:11  点击:

  就公司当前的发展现状,面临的机遇与挑战等问题,与投资者进行了充分的交流,让投资者真正了解到芯源微的发展脉络及技术优势。

  交流过程中,投资者对芯源微的技术领先性表示出了浓厚的兴趣,尤其是对公司光刻工序涂胶显影设备的技术水平进行了持续发问。宗润福表示,作为国产光刻工序涂胶显影设备的代表,在集成电路制造后道先进封装领域和LED芯片制造等领域,公司涂胶显影设备技术相对成熟,已批量应用于公司现有产品,并作为主流机型成功打入包括台积电、长电科技、华天科技、通富微电、晶方科技、华灿光电、乾照光电、澳洋顺昌等在内的多家国内知名一线大厂。

  对于公司在其他领域的拓展,宗润福表示,在集成电路制造前道晶圆加工领域,公司相关产品已于2018年下半年分别发往上海华力、长江存储进行工艺验证,其中,上海华力机台已于2019年9月通过工艺验证并确认收入,长江存储机台目前仍在验证中。

  芯源微是国内半导体高端设备的先行者,主要产品包括光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备,可用于6英寸及以下单晶圆处理及英寸单晶圆处理。其中,涂胶显影设备产品成功打破国外厂商垄断并填补国内空白,在LED芯片制造及集成电路制造后道先进封装等环节,作为国内厂商主流机型已成功实现进口替代;在集成电路制造前道晶圆加工环节,公司成功突破了前道涂胶显影设备关键技术,成型产品目前正在进行工艺验证。

  作为项目牵头单位,芯源微承担并完成了两项“02重大专项”项目,分别是“凸点封装涂胶显影、单片湿法刻蚀设备的开发与产业化”项目和“300mm晶圆匀胶显影设备研发”项目。截至2019年3月31日,芯源微已获得专利授权145项,其中发明专利127项;拥有软件著作权37项。此外,芯源微还先后主持制定了喷胶机、涂胶机两项行业标准。

  芯源微此次拟公开发行不超过2100万股,募资3.78亿元,用于高端晶圆处理设备产业化及研发中心项目。财务数据显示,芯源微2016年至2018年分别实现营业收入1.48亿元、1.90亿元、2.10亿元,归属于母公司所有者的净利润分别为493万元、2627万元、3048万元。

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